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Genie De-ion 痕量分析用纯化取水终端

专为痕量和超痕量元素分析定制,满足严苛的用水要求。

痕量和超痕量分析在科研、工业和检测等各个领域发挥着越来越重要的作用,这些灵敏的分析技术对分析过程中的污染风险零容忍。纯水在其中,参与清洗部件、冷却、标准曲线绘制、样品制备等诸多环节。水的纯度,必须符合严苛的要求。

Genie De-ion 是乐枫设计,与Genie G 或Genie PURIST 智能超纯水系统配合使用的纯化、取水终端,提供离子含量低至ppt 甚至亚ppt 水平的分析级超纯水,使用者可通过Genie 主控屏、终端触摸屏或脚踏开关控制取水。Genie De-ion 适用于电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)、石墨炉原子吸收(GF-AAS)等多种痕量/ 超痕量元素分析技术。

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